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滾鍍鎳1

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滾鍍鎳與吊鍍鎳，就鎳的電沉積機(jī)理而言基本是一致的，只是滾鍍鎳適用于不易在掛具上吊裝的小件產(chǎn)品，而吊鍍鎳適用于可在掛具上吊裝的較大鍍件，由于受鍍方式不同，對(duì)滾鍍鎳溶液的要求也就相應(yīng)改變。要求是：
1、鍍液導(dǎo)電性良好；滾鍍鎳的導(dǎo)電，不想吊鍍鎳那樣直接由掛具向鍍件輸入直流電受鍍，而是通過滾桶內(nèi)陰極梗向其相接觸的鍍件輸入直流電，再由這些鍍件傳導(dǎo)直流電至與它相接觸的其他鍍件，所以是在滾筒轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)鍍件不斷翻動(dòng)下的導(dǎo)電，接觸電阻較之吊鍍鎳相應(yīng)增大，為此，要求滾鍍鎳溶液的導(dǎo)電性相應(yīng)提高；
2、鍍液的活化性能優(yōu)越；滾鍍鎳時(shí)，鍍件因滾筒轉(zhuǎn)動(dòng)而不斷翻動(dòng)，造成鍍件在整個(gè)受鍍過程中，經(jīng)常有短時(shí)間斷電，而鎳層在斷電情況下是容易鈍化的，所以，必須采用活化性能優(yōu)越的鍍液，才能防止鎳層鈍化而避免鎳層間結(jié)合力不良的缺陷；
3、鍍液在低電流密度條件下有良好的沉積性能；滾鍍鎳時(shí)，鍍件的間接導(dǎo)電和較大的接觸電阻，不可能使鍍件的電流密度明顯提高，因此，要求鍍件在較低的電流密度條件下獲得良好的鎳層時(shí)，鍍液必須具備與此相適應(yīng)的要求。

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